溶剂（液膜）废碱液纯化回收

废碱液溶剂（液膜）纯化回收

小型分布式·模块化

像洗菜一样简单，几乎无能耗

点击视频

废碱包括固、液、气态，经过纯化处理，污染企业可工艺回用，用于销售也可以获得更高的价格，回收服务商，可以减少运输风险，获得更高的利润。但从事废酸回收的朋友通常会犯难，不知道买哪个设备，选什么工艺？溶剂（液膜）纯化技术能解决几乎你所有的问题，把它与传统的树脂吸附、膜法等工艺进行综合比较，具有非常明显的优势，特别适合就地回收及小型化规模化应用，符合国内废碱小、多、散的分布特点。

首先，像洗菜一样简单，将特定的比例的溶剂（液膜）加入到废碱溶液中即可实现分层纯化。

其次，几乎无能耗，几乎不需要什么专业设备，常温常压操作，自然没什么能耗，小型化，就地回收成为可能，特别适合回收回购服务朋友，规避运输风险。

再次，不担心环监安监，核心的溶剂（液膜）无毒无污染，通过回收可以实现无限次循环，且可生物降解，无污染自然少麻烦，也不需要再为“碱液偷拍、碱渣偷卖”提心吊胆。

最后，像白菜一样的价格，初始投资低于传统工艺的1/3，高达50%以上碱浓度，大于90%的回收率，传统工艺设备需要多少投资，大伙儿可以自行打听打听，笔者了解一支耐低浓度酸碱膜市面价格也得上万，还不定好买。

这种溶剂（液膜）废碱纯化技术，国际上比较火，国内还少见，几乎适用于所有行业的废碱纯化，诸如啤酒厂洗瓶废液、制浆造纸厂黑、白液、塑料清洗废液、电池回收电解液、氧化铝厂赤泥废碱回收，

以废碱液回收为例，挑选了半导体硅晶圆制程含硅氢氧化钾废液和氧化铝厂拜耳法循环液氢氧化钠回收，两个具有代表性的应用项目进行讲解，供各位入行、转行的朋友参考。

半导体硅晶圆化学机械研磨CMP制程中所使用的氢氧化钾溶液会因硅杂质累计浓度的升高而使化学研磨速度减慢，因此当硅杂质含量累积到一定程度时就必须更换氢氧化钾溶液。若从氢氧化钾损耗的角度来计算，实际上因应用而损耗只占溶液的一小部分，而其余大部分却是因为硅杂质含量过高以致效能降低而被当成废液淘汰浪费掉。此CMP废水的产出量在整个半导体工厂废水总量的不小比例，且不易处理，因此，若能将CMP制程所排放的废溶液中的氢氧化钾纯化回收，必能省下不少成本及减少资源的浪费。

传统且欠缺有效且合乎利益的处理方式如离子交换、超滤膜过滤、电渗析等，流程繁琐，且所需成本亦高不太适合规划化应用。

溶剂（液膜）技术作为传统技术的替代，程序简单，且经济实惠的制造流程符合产业实用。

氢氧化钾浓度52%，硅杂质含量2040ppm废碱液，经过溶剂纯化，氢氧化钾浓度达到54%，回收率大于90%，碱浓度及硅杂质含量符合工艺回用要求。

拜耳法氧化铝生产中会产生大量的循环液，因氢氧化钠浓度及杂质含量不符合再次使用要求而被淘汰浪费掉，浓缩除杂之后可以工艺回用。

溶剂（液膜）技术弥补了传统循环利用工艺繁琐、能耗大、效率低、二次污染、成本高，一般企业承担不起，特别是中小企业的缺陷，适合规模化实用。

氢氧化纳浓度47.95%废碱液，经过溶剂纯化，回收率大于99%，碱浓度及杂质含量符合工艺回用要求。

对于新项目建设可以根据情况采用大型项目EPC；中小型项目技术转让；小微个人项目采购核心溶剂或组件材料自行DIY的模式操作；大中型项目可以专业的设计公司设计以便补贴申请及估值；对于老旧废项目可以升级改造盘活。

另外笔者建议，无论是污染企业还是跑腿回收服务，都需做好必要的功课，如法律法规、标准，以便规避风险，利益最大化。目前该工艺技术只对终端提供EPC及有东南亚等国外市场发展基础的朋友提供技术，由于技术是卖点，只对有合作基础的朋友做技术交流，由于视频限制不便过多展开，感兴趣的朋友可以留言